高強度紫外線燈用於半導體微粒檢查

高強度紫外線燈LUYOR-3410檢測原理

近日
，浙江康鵬半導體有限公司采購了LUYOR-3410係列高強度紫外線燈用於晶圓表麵微粒檢測。晶棒在切割、清洗以及無塵室的particle等都會對晶圓表麵造成汙染，而這些particle在LUYOR-3410高強度紫外線燈照射下會發出熒光，檢查者會很容易發現汙點，會大幅度提高晶圓的良品率。

高強度紫外線燈LUYOR-3410配有不鏽鋼可調節支架
，即可用於便攜式操作，檢查機台表麵落塵，也可做為台式紫外線燈檢查晶圓表麵質量。

高強度紫外線燈LUYOR-3410在半導體行業的典型客戶：

1. 浙江康鵬半導體有限公司

2. 中科芯集成電路有限公司

3. 廣州市中芯電子科技有限公司

4. 台積電(上海)有限公司

晶圓盒潔淨度直接影響著晶圓的良品率，和晶圓企業配套的晶圓盒的生產企業相繼也有多家采購了LUYOR-3410高強度紫外線燈。

半導體潔淨室管理辦法如下：

1、內部要保持大於一大氣壓的環境
，以確保粉塵隻出不進。所以需要大型鼓風機，將經濾網的空氣源源不絕地打入潔淨室中。
2、為保持溫度與濕度的恒定

，大型空調設備須搭配於前述之鼓風加壓係統中。換言之，鼓風機加壓多久
，冷氣空調也開多久。
3、氣流方向均由上往下為主，盡量減少突兀之室內空間設計或機台擺放調配，使粉塵在潔淨室內回旋停滯的機會與時間減至更低程度。
4、建材均以不易產生靜電吸附的材質為主。
5

、人事物進出
，都必須經過空氣吹浴 (air shower) 的程序
，將表麵粉塵先行去除。
6、人體及衣物的毛屑是一項主要粉塵來源，為此務必嚴格要求進出使用人員穿戴無塵衣
，除了眼睛部位外，均需與外界隔絕接觸 (在次微米製程技術的工廠內
，工作人員幾乎穿戴得像航天員一樣。) 當然，化妝是在禁絕之內，鉛筆等也禁止使用。
7、除了空氣外，水的使用也隻能限用去離子水 (DI water, de-ionized water)。一則防止水中粉粒汙染晶圓，二則防止水中重金屬離子，如鉀、鈉離子汙染金氧半 (MOS) 晶體管結構之帶電載子信道 (carrier channel)
，影響半導體組件的工作特性。去離子水以電阻率 (resistively) 來定義好壞，一般要求至17.5MΩ-cm以上才算合格
；為此需動用多重離子交換樹脂、RO逆滲透、與UV紫外線shajun等重重關卡，才能放行使用。由於去離子水是更佳的溶劑與清潔劑，其在半導體工業之使用量極為驚人！
8
、潔淨室用得到的氣源，包括吹幹晶圓及機台空壓所需要的，都得使用氮氣 (98%)，吹幹晶圓的氮氣甚至要求99.8%以上的高純氮！ 以上八點說明是zui基本的要求，另還有汙水處理、廢氣排放的環保問題，再需要大筆的建造與維護費用!

高強度紫外線燈LUYOR-3410如何購買？

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